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紫外臭氧清洗機（UVO），是一種簡單，經濟，快速高效的材料表面清洗設備，能快速去除大多數無機基材（比如石英，硅片，金，鎳，鋁，砷化鎵，氧化鋁等）上的有機污染物。
紫外臭氧清洗機（UVOzone Cleaner, UVO），是一種簡單，經濟，快速高效的材料表面清洗設備，能快速去除大多數無機基材（比如石英，硅片，金，鎳，鋁，砷化鎵，氧化鋁等）表面上的有機污染物。
CIF推出全新一代CPC系列桌面型、可中試生產、模擬生產條件的等離子體清洗設備，幾乎具備等離子體清洗設備所有的功能。具有較大的腔體尺寸和樣品處理面積，使用成本低，性價比高，易維護，處理快速高效，特別適合于大學，科研院所和光電企業實驗室小批量中試生產。
紫外臭氧清洗機（UVOzone Cleaner, UVO），是一種簡單，經濟，快速高效的材料表面清洗設備，能快速去除大多數無機基材（比如石英，硅片，金，鎳，鋁，砷化鎵，氧化鋁等）表面上的有機污染物。
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